半导体无尘车间工程案例

奥宣净化
2018-06-07

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工程时间:2023年6月-2023年7月


工程内容:千级半导体车间净化工程案例

工程要求:净化车间千级净化间中国GMP标准相当于ISO标准的6级。中国GMP万级净化车间要求:≥0.5μm尘埃每立方米不超过35000个,≥5μm尘埃200个,沉降菌每器皿2个。

千级无尘车间每立方米将小于0.5微米粒径的微尘数量控制在35000个以下。目前应用在芯片半导体生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于A级,这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内,这也就是业内俗称的1K级别。为了防止外界污染侵入,需要保持内部的压力(静压)高于外部的压力(静压)。压力差的维持一般应符合以下原则:洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力,洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力,相通洁净室之间的门要开向洁净度级别高的房间。

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